Technika cienkich warstw – CVD i PVD

Rozróżnia się dwie metody otrzymywania cienkich warstw: fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) oraz chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD).  Metoda PVD pozwala na otrzymywanie warstw o grubości nanometrycznej. Proces składa się z trzech etapów: Otrzymywania par nanoszonego materiału. Transportu par na drodze źródło-podłoże. Wzrostu warstwy z zaadsorbowanych cząstek. W celu uzyskania prawidłowego przebiegu procesu […]

Czytaj dalej